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| 商品编码 | 84862021.00 |
| 商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 |
| 商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD) |
| 英文名称 | Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
|---|---|---|
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| 84862021.00 | 化学气相沉积设备 | CONCEPT ONE |
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| 84862021.00 | 钨膜化学气相沉积设备 | C3 Altus NOVELLUS牌 |
| 84862021.00 | 太阳能减反射膜制造设备 | Centrotherm牌,E2000 HT 410-4(4) |
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| 84862021.00 | 外延炉 | 用于半导体生产;使硅片上产生薄膜;LPE;PE2061S |
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| 84862021.00 | 等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统 | 用来镀非晶和微晶膜;品牌:OERLIKON SOLAR;型号:KAI MT |